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耐高溫玻璃的化學拋光
 發布時間:2013年03月11日 瀏覽:2484
化學拋光的原理與化學蝕刻一樣,是利用氧氟酸破壞玻璃表面原有的硅氧膜生產一層新的硅氧膜,來使耐高溫玻璃得到很高的關潔度與透光度的;瘜W拋光比機械拋光效率高,而且節約了大量動力。

化學拋光有兩種方法:一種是單純用化學侵蝕作用,另一種是用化學侵蝕和機械的研磨相結合。前者大都應用于玻璃器皿,后者大都應用于平板耐高溫玻璃。

采用化學侵蝕法進行拋光時,除了用氫氟酸外,還要加入能是侵蝕生產物(硅氟化物)溶解的添加物。一般采用硫酸,因硫酸的酸性強,同時沸點高,不容易揮發。

影響化學拋光的因素有以下幾種。

1、  玻璃的成分:鉛晶質玻璃最早易于拋光,鈉鈣玻璃則拋光速度較慢,效果較差。

2、  氫氟酸與硫酸的比例:根據玻璃成分來調整。

3、  酸液的溫度:溫度過低則反應太慢,過高則反應過于劇烈,給制品代理缺陷并增加了酸液的揮發,一般以40~50℃為宜。

4、  處理時間:時間過短,作用不完全,時間過長則表面有鹽類沉淀。具體時間應根據酸液的配比、溫度、處理設備來制定。一般用短時間(6~15s)多次酸處理方法,但處理次數也不宜過多,過多時(超過10次)容易形成波紋等缺陷。沒錯酸處理后,都應將制品表面用水沖洗以去掉沉淀的鹽類,如不洗凈就會影響拋光質量。

化學侵蝕和機械研磨相結合的方法稱為化學研磨法。在玻璃表面添加磨料和化學侵蝕劑,化學侵蝕生成的氟硅酸鹽,通過研磨而去除,使化學拍個的效率大為提高。此方法一度被重視為高效率磨光耐高溫玻璃的生產方法,只是由于浮法平板玻璃生產的興起,化學研磨沒有得到推廣。


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